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  • 产品名称: 半导体行业清洗用超纯水设备
  • 产品编号: 003
  • 上架时间: 2010-01-06
  • 浏览次数: 126

半导体行业清洗用超纯水设备

 

 我公司生产的半导体行业清洗用超纯水设备在设计上,采用成熟、可靠、先进、自动化程度高的二级RO+EDI+精混床除盐水处理工艺,确保处理后的超纯水水质确保处理后出水电阻率达到18.2 MΩ.cm。关键设备及材料均采用国际主流先进可靠产品,采用PLC+触摸屏控制,全套系统自动化程度高,系统稳定性高。大大节省人力成本和维护成本,水利用率高,运行可靠,经济合理。使设备与其它同类产品相比较,具有更高的性价比和设备可靠性。

 

 我们公司专业生产二级反渗透+EDI超纯水设备,有多年的生产经验,尤其在电控系统PLC方面在水处理行业技术都是比较成熟,我们也有做过很多各行业的水处理设备,这方面我们有丰富的经验。我们公司做出来的设备质量比他们都有优势,在国内具有一定的市场竟争力。该产品由于具备性能好、价格低于国外同类产品价格、供货及时、售后服务方便快捷等诸多优势。在LED、LCD、半导体、光电光学企业的脱盐水和超纯水装置,得到了业界的广泛赞誉,欢迎广大客户前来参观考察。

 

 部分案例:

 东莞市福地电子材料有限公司25吨/小时二级反渗透+EDI+精混床超纯水设备,出水水质:18 MΩ·cm。运营起始日期:2009年12月;

 浙江省宸亿电子有限公司20吨/小时二级反渗透+EDI+精混床18M超纯水设备,运营起始日期:2009年5月;

 东莞市高辉光电有限公司10吨/小时二级反渗透+EDI+精混床18M超纯水设备,运营起始日期:2006年12月;

 东莞市矽德半导体有限公司25吨/小时二级反渗透+EDI+精混床18M超纯水设备,运营起始日期:2006年6月;

 深圳市东宝光电有限公司3吨/小时二级反渗透+EDI+精混床18M超纯水设备,运营起始日期:2006年12月;

 比亚迪股份有限公司15吨/小时二级反渗透+EDI+精混床超纯水设备出水达到≥17 MΩ·cm,运营起始日期:2010年7月。

 黄山市中显微电子有限公司20吨/小时二级反渗透+EDI+精混床超纯水设备出水达到≥17 MΩ·cm,运营起始日期:2011年9月。

 

 我相信只有您实地考察,看了我们的厂房及工程设备,才会相信我们的实力,我们随时欢迎您的到来。耐心解答您的咨询,咨询我们前,请您告诉我们几个参数:

 1.原水水源(自来水,地下水井水,河水,湖水...),除了自来水,其它的水源,需要提供水质报告,水源不一样,处理工艺不一样,费用就有很大的差别;

 2.配置(需要高端配置还是一般配置,就是指水泵有国产的还是进口的,反渗透膜用海德能的还是陶氏的,材质用不锈钢/玻璃钢/碳钢...)

 3.控制(全自动PLC/半自动/手动)

 4.出水水质要达到什么标准,电阻率要达到多少,有什么用途,如果不知道,也没关系,告诉我们您是做什么产品的,我们做给您设计出完全符合您生产要求的方案。

 

 我们能够提供的服务

 1、原水水质分析

 2、水处理工艺技术方案与工程设计

 3、水处理项目投资报告、可行性分析

 4、水处理系统安装调试、技术施工服务

 5、反渗透设备维护、清洗、保养及售后服务

 6、技术培训

 7、工程施工管理及技术监督,跟踪服务 

 8、反渗透膜的清洗、多种零件的更改

 

 设备的售后服务

 1、负责所供设备的指导安装调试。

 2、提供需方设备维护人员培训。

 3、对所售设备提供一年保修(易损易耗件除外)、终生维修。

 4、为用户建立计算机管理档案,定期回访。

 5、设立顾客满意电话,随时接受用户咨询。

 6、分布在各地的售后服务人员将即时解决用户使用中产生的问题。

 

半导体行业清洗用超纯水设备介绍

 

一、半导体行业用超纯水水质标准:

 我公司电子级超纯水设备出水水质完全符合美国ASTM纯水水质标准、我国电子工业部电子级水质技术标准(18MΩ.cm、15MΩ.cm、10MΩ.cm、2MΩ.cm、0.5MΩ.cm五级标准)、我国电子工业部高纯水水质试行标准、美国半导体工业用纯水指标、日本集成电路水质标准、国内外大规模集成电路水质标准。

 

二、半导体行业清洗用超纯水设备对水质的要求:

 新兴的半导体行业、光电材料生产、加工、清洗;LCD液晶显示屏、PDP等离子显示屏、高品质灯管显像管、微电子工业、FPC/PCB线路板、电路板、大规模、超大规模集成电路需用大量的高纯水、超纯水清洗半成品、成品。集成电路的集成度越高,对水质的要求也越高,这也对超纯水处理工艺及产品的简易性、自动化程度、生产的连续性、可持续性等提出了更加严格的要求。

 

 三、应用场合:

 1.半导体材料、器件、印刷电路板和集成电路

 2.电解电容器生产铝箔及工作件的清洗

 3.电子管生产、电子管阴极涂敷碳酸盐配液

 4.显像管和阴极射线管生产、配料用纯水

 5.黑白显像管荧光屏生产、玻壳清洗、沉淀、湿润、洗膜、管颈清洗用纯水

 6.液晶显示器的生产、屏面需用纯水清洗和用纯水配液

 7.晶体管生产中主要用于清洗硅片,另有少量用于药液配制

 8.集成电路生产中高纯水清洗硅片

 9.LCD液晶显示屏、PDP等离子显示屏

 10.高品质显像管、萤光粉生产

 11.半导体材料、晶元材料生产、加工、清洗

 12.超纯材料和超纯化学试剂、超纯化工材料

 13.实验室和中试车间

 14.汽车、家电表面抛光处理

 15.光电产品、其他高科技精微产品

 

四、典型半导体行业清洗用超纯水设备制备工艺:

 1、预处理系统→反渗透系统→中间水箱→粗混合床→精混合床→纯水箱→纯水泵→紫外线杀菌器→抛光混床→精密过滤器→用水对象 (≥18MΩ.CM)(传统工艺)

 2、预处理→反渗透→中间水箱→水泵→EDI装置→纯化水箱→纯水泵→紫外线杀菌器→抛光混床→0.2或0.5μm精密过滤器→用水对象(≥18MΩ.CM)(最新工艺)

 3、预处理→一级反渗透→加药机(PH调节)→中间水箱→第二级反渗透(正电荷反渗膜)→纯水箱→纯水泵→EDI装置→紫外线杀菌器→0.2或0.5μm精密过滤器→用水对象(≥17MΩ.CM)(最新工艺)

 4、预处理→反渗透→中间水箱→水泵→EDI装置→纯水箱→纯水泵→紫外线杀菌器→0.2或0.5μm精密过滤器→用水对象(≥15MΩ.CM)(最新工艺)

 5、预处理系统→反渗透系统→中间水箱→纯水泵→粗混合床→精混合床→紫外线杀菌器→精密过滤器→用水对象 (≥15MΩ.CM)(传统工艺)

 

五、半导体行业清洗用超纯水设备特点

 为满足用户需要,达到符合标准的水质,尽可能地减少各级的污染,延长设备的使用寿命、降低操作人员的维护工作量.在工艺设计上,取达国家自来水标准的水为源水,再设有介质过滤器,活性碳过滤器,钠离子软化器、精密过滤器等预处理系统、RO反渗透主机系统、离子交换混床(EDI电除盐系统)系统等。 系统中水箱均设有液位控制系统、水泵均设有压力保护装置、在线水质检测控制仪表、电气采用PLC可编程控制器,真正做到了无人职守,同时在工艺选材上采用推荐和客户要求相统一的方法,使设备与其它同类产品相比较,具有更高的性价比和设备可靠性。

我公司专业生产半导体行业用超纯水设备、光电行业用水制水设备(高纯水、超纯水设备),可根据你的需要定制各种型号。我们更专业你才能更放心 ,我们诚信服务让你满意100 。欢迎来电咨询 :联系电话:0769-22669815,22689415,22689416,15820880120  传真:0769-23105820  Q:312601169 公司网址:http://www.dgym.cn

半导体行业清洗用超纯水设备

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